三氧化二铝靶材Al2O3靶材磁控溅射靶材

厂家 科研实验 三氧化二铝靶材 Al2O3靶材 颗粒 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

纯度 99.99%

产品介绍

    化学式Al2O3。是一种高硬度的化合物，熔点为2054℃，沸点为2980℃，在高温下可电离的离子晶体，常用于制造耐火材料。氧化铝含有元素铝和氧。若将铝矾土原料经过化学处理，除去硅、铁、钛等的氧化物而制得的产物是纯度很高的氧化铝原料，Al2O3含量一般在99%以上。矿相是由40%～76%的γ- Al2O3和24%～60%的α- Al2O3组成。γ- Al2O3于950～1200℃可转变为α- Al2O3，同时发生显著的体积收缩。

产品用途

用作研磨剂，并用于制坩埚、陶瓷、耐火材料和人造宝石等。用作制铝原料，并可形成不同晶形的氢氧化铝。

产品参数

中文名 氧化铝   沸    点 2980ºC

分子量 101.96    密    度 3.5-3.9g/cm3

外 观 白色无定形粉状物  作用 在高温下可电离的离子晶体，常用于制造耐火材料

产品规格   图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票

产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

厂家优势

   厂家

   收货后7日内可协商退换货

   靶材种类

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高Au,高纯银Ag,高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高Au,金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合